设备名称 Equipment Name

管式低压淀积炉  Horizontal LPCVD

设备型号 Equipment Model

LD-420A

设备用途 Equipment Application

本设备主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片表面淀积多晶硅及原位掺杂。

Equipment Application: mainly used for deposition of Poly-Si layer and in-situ doping in the production of c-si solar cells.

技术特点  Features

1、低压化学气相淀积功能。
Low pressure chemical vapor deposition.

2、多重水冷密封机构。
Multiple water-cooled tube sealing technology.

3、反应管双层结构。
Double-layer quartz tube structure.

4、独立调节分段进气方式。
Independently regulated sectional air inlet.

5、平移式炉门驱动机构。
Translational furnace door driver mechanism.

6、高速平稳整体模组推舟机构。
High-speed integral module boat pushing mechanism.

7、全数字化控制。
Digital control.

8、更多温区温度控制。
More temperature zone control.

9、智能化全自动控制。
Intelligent automatic control.

10、全面的防超温、断偶、撞舟等安全报警保护功能。

Alarm protection for over-heating, thermocouple-break and boat collision.

设备参数  Parameters